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磁控濺射原理

作者: 來源: 日期:2021-01-21 10:49:15 人氣:1048

磁控濺射具有以下兩大優點:提高等離子密度,從而提高濺射速度;減少轟擊零件的電子數目,因而降低了基材因電子轟擊的升溫。

因此,該技術在薄膜技術中占有主導地位。磁控濺射陰極的最大缺點:使用平面靶材,靶材在跑道區形成濺射溝道,這溝道一旦貫穿靶材,則整塊靶材即報廢,因而靶材的利用率只有20-30%。

不過,目前為了避免這個缺點,很多靶材采用圓柱靶材形式,靶材利用率得以大幅度提高。

下一個:靶材
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