微信二維碼微信掃一掃 關注浦元最新動態!

企業新聞

當前位置:首頁|新聞中心

磁控濺射常見技術

作者: 來源: 日期:2021-03-09 13:58:33 人氣:884

直流磁控濺射: 直流磁控濺射是在直流二級濺射的基礎上,在靶材后面安防磁鋼??梢杂脕頌R射沉積導電膜,而且沉積速度快;

但靶材若為絕緣體的話,將會迅速造成靶材表面電荷積累,從而導致濺射無法進行。所以對于純金屬靶材的濺射,均采用直流磁控濺射,如濺射SUS,Ag,Cr,Cu等。 


中頻磁控濺射, 常用來進行反應濺射,如金屬氧化物、碳化物等,將少許反應性氣體N2,O2,C2H2等同惰性氣體Ar2一起輸入到真空腔中,使反應氣體與靶材原子一起于基材上沉積。

對于一些不易找到的塊材料制成靶材的鍍膜或陶瓷靶材在濺鍍后,薄膜成分易偏離原靶材成分,也可通過反應沉積來獲得改善。


友情鏈接: 三菱伺服電機  鐵件鍍錫  粉塵檢測儀  移動伸縮噴漆房  鋼筋桁架樓承板  環氧自流平施工  紅木家具  法蘭盤  水穩攪拌站  端子截面分析儀  防火隔音門  鈹銅板 
版權所有 ? 昆山浦元真空技術工程有限公司 Copyright 2016 All Rights Reserved
  技術支持:昆山果橙網絡  蘇ICP備16002609號-1  后臺登陸 網站地圖  XML
久久精品国产99精品亚洲,,欧美伊人久久大香线蕉综合,,中文字幕一区二区三区乱码,,在线亚洲人成电影网站色www