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射頻磁控濺射

作者: 來源: 日期:2021-04-26 8:57:00 人氣:831

用來進行介質膜的濺射,如在玻璃上鍍ITO膜之前需鍍上一層SiO2擴散隔離層,該SiO2膜就是采用射頻濺射。 

通常在濺射過程中輝光放電中的離子撞擊到陰極時,會與陰極的電子中和,是的濺射現象可以繼續進行。

但若靶材本身不導電的話,離子撞擊到靶材上沒有電子中和,

正電荷一直累積,使與后來的離子排斥,這會造成取代直流電源,使可解決此離子撞擊現象的停頓。

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